熱場(chǎng)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡FE-SEM
產(chǎn)品型號(hào):SU5000
簡(jiǎn)介介紹:操作高效便捷: 界面更加直觀,僅需要“點(diǎn)擊”即可得到圖像。
超前的電腦輔助技術(shù)將電鏡的操作與控制提升到一個(gè)新水平。
詳情介紹
Hitachi SU5000 FE-SEM
高性能電子光學(xué)系統(tǒng) :
? 二次電子分辨率 _ 頂位二次電子探測(cè)器 (2.0 nm at 1 kV) 。
? 高靈敏度 _ 高效PD-BSD, 超強(qiáng)的低加速電壓性能,低至100 V成像。
? 大束流 (>200 nA) _ 便于高效微區(qū)分析。
性能優(yōu)異 :
? 壓力可變 _ 具有優(yōu)異的低真空(10-300 Pa)成像性能,
配備高靈敏度低真空探測(cè)器 (UVD)
? 開倉(cāng)室快速簡(jiǎn)單換樣(樣品尺寸:Ф200 mm x 80 mmH)。
? 微區(qū)分析 _ EDS,WDS,EBSD等等
主要技術(shù)規(guī)格
1.2 nm @30 kV(SE)
3.0 nm @1 kV(SE)
2.0 nm @1 kV(SE) 減速模式
3.0 nm @15 kV(BSE) 低真空模式
X
Y
Z
T
R
典型的安裝布局圖 (單位 : mm)
主機(jī) 操作臺(tái)
526
機(jī)械泵
重塊
空壓機(jī)
225
3,200
400
230
2,800
600 或以上 740 1,100
1,200
1,000
1,120
180
200
10~600,000x (底片倍率), 18~1,000,000x (800x600 像素)/30~1,500,000x(1,280x960 像素)
ZrO/W 肖特基式電子槍
0.5~30 kV (0.1 kV 步進(jìn))
減速模式:0.1~2.0 kV
>200 nA
低位二次電子探測(cè)器
真空范圍:10~300 Pa
5-軸自動(dòng)(優(yōu)中心)
0~100 mm
0~50 mm
3~65 mm
-20~90 °
360 °
直徑:200 mm
高度:80 mm
23寸 LCD(1,920×1,080 像素)
1,280×960 像素
800×600 像素
640×480 像素
640×480 像素
640×480、 1,280×960、 2,560×1,920、 5,120×3,840
740(W)x 1,000(D) x 1,650(H) mm 550 kg
1,100(W)x 1,120(D) x 730(H) mm 290 kg
526(W)x 225(D) x 306(H) mm 28 kg
400(W)x 230(D) x 520(H) mm 18 kg
200(W)x 180(D) x 160(H) mm 40 kg
顯示器
顯示模式
圖像數(shù)據(jù)保存
體積與重量
*選配 1: 減速功能(包含高分辨率頂位二次電子探測(cè)器) *選配 2 : 低真空功能(包含5分割半導(dǎo)體探測(cè)器) *選配 3: 空壓機(jī)(本地采購(gòu))
選配探測(cè)器 高分辨率頂位二次電子探測(cè)器
高靈敏度低真空探測(cè)器.(UVD)
5分割半導(dǎo)體探測(cè)器(PD-BSD)
能譜儀 (EDS)
波譜儀 (WDS)
背散射電子衍射探測(cè)器 (EBSD)