離子研磨儀
產(chǎn)品型號：IM4000II
簡介介紹：日立離子研磨儀標(biāo)準(zhǔn)機(jī)型IM4000Ⅱ能夠進(jìn)行截面研磨和平面研磨。還可通過低溫控制及真空轉(zhuǎn)移等各種選配功能，針對不同樣品進(jìn)行截面研磨
詳情介紹
日立離子研磨儀標(biāo)準(zhǔn)機(jī)型IM4000Ⅱ能
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主要內(nèi)容
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使用氣體
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氬氣
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氬氣流量控制方式
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質(zhì)量流量控制
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加速電壓
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0.0 ～ 6.0 kV
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尺寸
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616(W) × 736(D) × 312(H) mm
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重量
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主機(jī)53 kg＋機(jī)械泵30 kg
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截面研磨
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研磨速度（Si材料）
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500 μm/h*1以上
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樣品尺寸
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20(W）×12(D）×7（H）mm
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樣品移動(dòng)范圍
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X±7 mm、Y 0 ～+3 mm
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離子束間歇加工功能
開啟/關(guān)閉 時(shí)間設(shè)定范圍
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1秒 ～ 59分59秒
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擺動(dòng)角度
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±15°、±30°、±40°
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廣域截面研磨功能
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-
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平面研磨
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加工范圍
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φ32 mm
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樣品尺寸
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Φ50 X 25 (H) mm
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樣品移動(dòng)范圍
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X 0～＋5 mm
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離子束間歇加工功能
開啟/關(guān)閉 時(shí)間設(shè)定范圍
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1秒 ～ 59分59秒
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旋轉(zhuǎn)速度
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1 rpm、25 rpm
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擺動(dòng)角度
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±60°、± 90°
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傾斜角度
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0 ～ 90°
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項(xiàng)目
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內(nèi)容
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低溫控制功能*2
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通過液氮間接冷卻樣品，溫度設(shè)定范圍：0°C ～ －100°C
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超硬遮擋板
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使用時(shí)間約為標(biāo)準(zhǔn)遮擋板的2倍（不含鈷）
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加工過程觀察用顯微鏡
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放大倍數(shù) 15× ～ 100× 雙目型、三目型（可裝CCD）
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